刊 名:
电子元件与材料
ELECTRONIC COMPONENTS AND MATERIALS
主 办
国营第715厂
中国电子学会
中国电子元件行业协会
刊 期:月刊
出版地:成都市
语 种:中文
开 本:大16开
刊 号:

ISSN 1001-2028
CN 51-1241/TN
邮发代号:62—36
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  • PECVD法制备纳米硅薄膜材料

    曾祥斌,徐重阳,王长安,墙威,周雪梅,赵伯芳,戴永兵

    采用等离子增强化学汽相淀积(PECVD) 法制备了纳米硅薄膜材料, 研究了工艺参数, 如衬底温度、衬底直流偏压、反应气体流量比等对薄膜性能的影响。采用椭圆偏振光谱和有效介质近似法分析了薄膜结构

    1999年05期 1-2+47页 [查看摘要][在线阅读][下载 131k]
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  • 厚膜直接描绘工艺

    何中伟,周冬莲

    直接描绘工艺是一种全新的厚膜成膜工艺技术。对直接描绘工艺与传统丝网漏印工艺的性能进行了比较。介绍了直接描绘的基本工作原理、主要工序及常见故障的排除等

    1999年05期 3-6+47页 [查看摘要][在线阅读][下载 206k]
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  • 有机PTCR材料的辐射改性研究

    蒲明辉,王运飞,张永民,王玲

    介绍以高密度聚乙烯(HDPE) 为基材, 碳黑、二氧化钛(TiO2) 为导电填料的有机PTCR材料的制备工艺, 采用γ-60Co 源与电子加速器两种辐射源, 对有机PTCR材料进行辐射改性, 对两种方法进行了初步的比较与研究

    1999年05期 7-8+47页 [查看摘要][在线阅读][下载 129k]
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  • 共沉淀法制备Ba(Mg_(1/3)Ta_(2/3))O_3陶瓷的研究

    顾峰,沈悦,王树棠,阮素香

    对用化学共沉淀法制备Ba (Mg1/3Ta2/3) O3 (BMT) 陶瓷及其烧结特性进行了研究。结果表明其烧结温度比用传统方法降低了180~250℃。在1 400℃时获得了致密的陶瓷,其体积密度达理论密度的96% ,晶粒排列紧密,介电特性:Q×f= 65 000 GHz,εr= 23~25,在f= 10GHz,t= - 20~+ 60℃时τf = (0~3)×10- 6℃- 1。

    1999年05期 9-10+47页 [查看摘要][在线阅读][下载 129k]
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  • 通讯设备保护用低阻PTC元件的研制

    马新强,王红玲

    介绍了通讯设备过流保护用低阻PTC元件的研究过程, 发现TiO2 粒度、工艺参数、金属电极以及封装形式对低阻PTC元件的电性能有较大影响。通过对以上因素进行综合优化调整,妥善解决了低阻系列PTC产品的细晶化与低阻值之间的矛盾, 制得了满足厂家要求的PTC产品。

    1999年05期 11-12+47页 [查看摘要][在线阅读][下载 119k]
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  • PLZT陶瓷的晶界现象

    祝炳和,赵梅瑜,姚尧,郑鑫森,敖海宽,殷之文

    利用显微技术,研究了PLZT陶瓷的显微结构及它在外电场作用下的行为。制备粗晶粒及单个晶粒厚的抛光薄片, 利用十字形电极, 观察在电场作用下, 电畴运动的动态过程。讨论所观察到的一些晶界有关现象,如: 晶界平滑区, 晶界区的电光性, “壳-芯”结构, 析出物在晶界区的沉积, 电畴在该区的成核和生长, 空间电荷在该区的积累等等。认为存在高应变能的晶界区, 对上述现象起重要作用

    1999年05期 13-17+47页 [查看摘要][在线阅读][下载 351k]
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  • 碳酸钙对BaTiO_3系PTC热敏电阻电性能的影响

    朱盈权,侍刚,何海清,祝炳和

    研究了碳酸钙对BaTiO3 系PTC热敏电阻电性能的影响。结果表明,随着钙加入量的增加,BaTiO3 的低温相变点, 移向更低的温度; 促进烧成时芯片的致密化; 使BaTiO3 晶粒尺寸几乎呈线性下降; 使晶粒、晶界电阻下降; α、Rm ax/Rm in 无大的变化, ρ25增大, Vb 提高。碳酸钙的理化指标, 对PTC热敏电阻电性能也有很大影响, 据此推荐了BaTiO3 系PTC热敏电阻用CaCO3 的技术标准

    1999年05期 18-20+47页 [查看摘要][在线阅读][下载 172k]
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  • 新版ISO 9000族标准2000年年底颁布实施

    1999年05期 20页 [查看摘要][在线阅读][下载 32k]
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  • 老练条件的变化对铝电解电容器质量的影响

    陈平文

    铝电解电容器的老练直接影响产品的质量。老练条件的变化对铝电解电容器的电容量、漏电流有一定的影响。在额定老练电压、+ 90℃5h 条件下老练, 能更好地改善产品质量, 提高产品合格率。采用脉冲老练可以缩短老练时间, 但漏电流回升速度快

    1999年05期 21-22+24-47页 [查看摘要][在线阅读][下载 149k]
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  • AlN基片的薄膜金属化

    高能武,陆吟泉,秦跃利,吴云海

    讨论了AlN基片的薄膜金属化。通过试验,确定了有效的清洗方法及优化溅射参数。实验证明,TiW-Au 是AlN的优良金属化体系。AlN材料经激光划片后出现导电物质, 经稀盐酸处理可去掉导电物质

    1999年05期 23-24+47页 [查看摘要][在线阅读][下载 121k]
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  • 电解电容器快速老练工艺的研究

    张飞翔,王津,朱绪飞,刘霖

    分析传统老练工艺的缺点, 指出老练的目的是恢复电解电容器固有的电性能。研究老练温度、老练时间对产品电性能的影响。提出了快速老练新工艺, 老练时间只有3 h。采用优质的电解液是快速老练的前提

    1999年05期 25-27+48页 [查看摘要][在线阅读][下载 146k]
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  • 低压化成箔的国产化

    陈铭涛

    目前大部分铝电解电容器生产厂家的铝箔需要进口,尤其是低压高比容的化成箔,影响电容器的生产成本。近年来, 浙江横店化成箔厂在低压化成箔生产技术方面取得较大突破, 25 V及35 V化成箔经样品认定、小批量试用及大批量使用表明: 25 V及35 V 13 m m 以上产品的化成箔可实现国产化

    1999年05期 28-29+48页 [查看摘要][在线阅读][下载 132k]
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  • 永久型数字式电位器X9313及其应用

    陈勇,王玉梅

    永久型数字式电位器X9313系列, 其内部包含有控制电路, 5位二进制可逆计数器, 32选1译码器,5位E2PROM 以及电阻阵列, 它即可用单片机控制, 也可应用于非单片机控制锁相环中心频率电路中。

    1999年05期 30-31+48页 [查看摘要][在线阅读][下载 120k]
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  • 氮化铝陶瓷直接覆铜技术

    黄岸兵,崔嵩,张浩

    研制出一种直接覆铜AlN基板。先将AlN 陶瓷基板作表面氧化处理, 然后在1 063~1 070℃下, 氮气氛中煅烧, 使铜箔直接焊敷在AlN基板上。铜箔的剥离强度可达到853.2 Pa, 厚度为0.1~0.5 m m , 最大基板面积可达50 m m ×50 m m

    1999年05期 32-34+48页 [查看摘要][在线阅读][下载 135k]
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  • X波段五位移相器和小功率开关HMIC的研制

    薛羽

    介绍了一种用混合微波组装工艺制造的X波段PIN二极管五位数字移相器和小功率开关HMIC的电路设计和制造工艺,并分析了制造工艺对移相器的影响, 提出了控制这种影响的方法。用这种控制方法制造的该X波段PIN二极管五位数字移相器和小功率开关HMIC: 体积小、可靠性高

    1999年05期 33-34页 [查看摘要][在线阅读][下载 65k]
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  • 镍内电极铌镁酸铅基MLC研制

    李玲霞,郜昕,张志萍,董向红

    1999年05期 35页 [查看摘要][在线阅读][下载 26k]
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  • 国内正在崛起的新型电池

    高宗铭

    我国电池产量居世界首位, 但其中产量的90% 以上为低档次电池。近10多年来, 我国新型电池的生产引人注目。其中有碱性锌锰电池、锂一次电池及小型可充电镉镍电池、氢镍电池和锂离子电池。介绍了国内正在崛起的几种新型电池。

    1999年05期 36-37+48页 [查看摘要][在线阅读][下载 119k]
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  • 通信系统中“电触点”对信号传输的影响

    孙百生,章继高,程履帮,林雪燕

    通信系统中电触点不良会造成对信号传输的影响。根据电接触理论结合高频传输的特点, 建立了电触点的物理模型, 研究发现当接触电阻大于传输线特性阻抗的两倍时, 接收端得到的信号幅度将减小一半以上(A< 1/4), 从而将产生误码, 因而应尽可能减小接触阻抗

    1999年05期 38-39+48页 [查看摘要][在线阅读][下载 117k]
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  • 基于压阻效应的厚膜力敏材料及传感器

    马以武,宋箭,常慧敏

    介绍了厚膜电阻的压阻效应、厚膜力敏材料及传感器。描述了厚膜力敏材料及传感器的现状, 着重阐述了厚膜压力传感器和力传感器的结构和工艺特点, 并讨论了提高其性能的途径及其发展趋势。

    1999年05期 40-42+48页 [查看摘要][在线阅读][下载 159k]
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  • 用导电聚合物电极的超电容器研究概况

    张光敏,阎康平,严季新

    导电聚合物制备电极的超电容器(Supercapacitors) 有两种类型: 导电聚合物直接制备电极和导电聚合物高温热解为硬碳(Hard carbon)制备电极的电容器。导电聚合物超电容器基于法拉第准电容(Faradaicpseu-docapacitance) 原理, 进出正极的是阴离子, 进出负极的是阳离子。该电容器结构中一个电极是n 型掺杂, 另一个是p 型掺杂。聚合物超电容器的能量密度比活性碳作电极的双电层电容器大2~3倍, 作为电容性储能装置应用前景诱人

    1999年05期 43-45+48页 [查看摘要][在线阅读][下载 155k]
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  • 机电一体化产品新技术

    陈德宏

    1999年05期 46页 [查看摘要][在线阅读][下载 18k]
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